| 网页标题 | 用超低损伤中性... | 报纸发表 | 东北大学 -TOHOKU UNIVERSITY- |
|---|---|
| 网页关键词 | |
| 网页描述 | 东北大学流体科学研究所及原子分子材料科学高等研究机构的寒川诚二教授的小组,此次使用对锗通道MOS晶体管制造工艺中绝缘门的形成无损伤,并可实现低温氧化的中**粒子束氧化工艺,首次实现了被认为极困难直接形成... |
| 查询链接 | https://www.tohoku.ac.jp/chinese/2012/09/press20120913-01.html |
| 提示:本站与 https://www.tohoku.ac.jp/chinese/2012/09/press20120913-01.html没有任何关系,相关事宜请联系原站,本站只做TDK检测查询。 | |